[发明专利]高真空环境下防止冷焊效应Ni-P非晶/MoS2的复合膜无效
| 申请号： | 200910074458.0 | 申请日： | 2009-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN101643897A | 公开（公告）日： | 2010-02-10 |
| 发明（设计）人： | 于金库;马明臻;刘日平;常丹华 | 申请（专利权）人： | 燕山大学 |
| 主分类号： | C23C18/16 | 分类号： | C23C18/16;C23C18/36;C23C18/50 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 066004河北省*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空 环境 防止 冷焊 效应 ni mos2 复合 | ||
【权利要求书】：
1.一种高真空环境下防止冷焊效应Ni-P非晶/MoS2的复合膜，其特征在于：在非晶和铝合金工件表面上镀覆Ni-P非晶/MoS2复合膜，在高真空环境下所述Ni-P非晶/MoS2复合膜具有防止冷焊效应；
2.根据权利要求1所述的高真空环境下防止冷焊效应Ni-P非晶/MoS2的复合膜，其特征在于：所述Ni-P非晶/MoS2复合膜和非晶合金的粘着系数小于10-4量级。
3.根据权利要求1或2所述的高真空环境下防止冷焊效应Ni-P非晶/MoS2的复合膜，其特征在于：所述Ni-P非晶/MoS2复合膜和铝合金的粘着系数小于10-4量级。
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- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀，即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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