[发明专利]阴极射线或X射线激发长余辉发光材料及其制备方法无效
| 申请号： | 200910066946.7 | 申请日： | 2009-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN101550339A | 公开（公告）日： | 2009-10-07 |
| 发明（设计）人： | 张家骅;张金苏;张霞 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | C09K11/85 | 分类号： | C09K11/85 |
| 代理公司： | 长春菁华专利商标代理事务所 | 代理人： | 王淑秋 |
| 地址： | 130033吉林*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种阴极射线或X射线激发长余辉发光材料，其化学式为：KF-(3-x)YF3-xMFn，其中：0.0015≤x≤1.5；n＝2或3；M是稀土离子中的至少一种，其制备方法如下：按材料组成化学计量比称取氟化钾、氟化钇和三价稀土氟化物，充分混匀后置入坩埚，80℃-100℃烘12小时，在高纯氮气或氮气氢气保护气氛下焙烧；200℃-300℃预烧2小时，700℃-800℃焙烧8-10小时，在氮气保护气氛下冷却，取出研碎。本发明的长余辉荧光粉在阴极射线管和X射线辐照后，具有各种不同颜色的余辉，余辉衰减时间大于1秒，可涂敷在雷达显示器上，用于显示目标的速度、方位和距离。 | ||
| 搜索关键词： | 阴极射线 射线 激发 余辉 发光 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种阴极射线或X射线激发长余辉发光材料，其特征在于化学式为：KF-(3-x)YF3-xMFn其中：0.0015≤x≤1.5；n＝2或3；M是稀土离子Ce3+，Pr3+，Nd3+，Sm3+，Eu3+，Gd3+，Tb3+，Dy3+，Ho3+，Er3+，Tm3+，Yb3+，Sm2+，Eu2+中的至少一种。
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