[发明专利]阴极射线或X射线激发长余辉发光材料及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200910066946.7 申请日: 2009-05-13
公开(公告)号: CN101550339A 公开(公告)日: 2009-10-07
发明(设计)人: 张家骅;张金苏;张霞 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: C09K11/85 分类号: C09K11/85
代理公司: 长春菁华专利商标代理事务所 代理人: 王淑秋
地址: 130033吉林*** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: 阴极射线 射线 激发 余辉 发光 材料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种通式(I)发光材料作为阴极射线或X射线激发长余辉发光材料的应用;

KF-(3-x)YF3-xMFn    (I)

其中:0.0015≤x≤1.5;n=2或3;M是稀土离子Ce3+,Pr3+,Nd3+,Sm3+,Eu3+,Gd3+,Tb3+,Dy3+,Ho3+,Er3+,Tm3+, Yb3+,Sm2+,Eu2+中的至少一种。

2.一种通式(I)发光材料作为阴极射线或X射线激发长余辉发光材料的应用;其中:0.0015≤x≤0.18。

3.一种通式(I)发光材料作为阴极射线或X射线激发长余辉发光材料的应用;其中:x=0.0015。

4.一种通式(I)发光材料作为阴极射线或X射线激发长余辉发光材料的应用;其中:x=0.03。

5.一种通式(I)发光材料作为阴极射线或X射线激发长余辉发光材料的应用;其中:x=0.06。

6.一种通式(I)发光材料作为阴极射线或X射线激发长余辉发光材料的应用;其中:x=0.18。

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