[发明专利]光刻机控制系统无效

专利信息
申请号: 200910053599.4 申请日: 2009-06-23
公开(公告)号: CN101581886A 公开(公告)日: 2009-11-18
发明(设计)人: 霍志军;周权;潘菊凤;陈建民 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G05B19/418
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 代理人: 王 洁
地址: 201203*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种光刻机控制系统,包括多个分控制系统,每一分控制系统均包括用于控制所述分控制系统的中央处理器;多个从控制板,每一从控制板连接一所述分控制系统的中央处理器;一主控制板,通过开放式控制总线与所述多个从控制板连接;总控制系统,通过所述主控制板和所述从控制板控制所述多个分控制系统;所述光刻机控制系统调整与所述主控制板连接的从控制板的数量,从而调整所述光刻机控制系统的分控制系统的数量。本发明的光刻机控制系统结构简单,具有较好的兼容性和扩展性。
搜索关键词: 光刻 控制系统
【主权项】:
1.一种光刻机控制系统,包括:多个分控制系统,每一分控制系统均包括一用于控制所述分控制系统的中央处理器,其特征在于,该光刻机控制系统还包括:多个从控制板,每一从控制板连接一所述分控制系统的中央处理器;一主控制板,通过开放式控制总线与所述多个从控制板连接;总控制系统,通过所述主控制板和所述从控制板控制所述多个分控制系统;所述光刻机控制系统通过调整与所述主控制板连接的从控制板的数量,调整所述光刻机控制系统的分控制系统的数量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司,未经上海微电子装备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910053599.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top