[发明专利]双银复合结构可钢化低辐射镀膜玻璃及其工艺无效
| 申请号： | 200910047320.1 | 申请日： | 2009-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN101531471A | 公开（公告）日： | 2009-09-16 |
| 发明（设计）人： | 王茂良;吴斌;李志军;顾云;葛建军;徐佳霖;黄一波;方志坚 | 申请（专利权）人： | 上海耀华皮尔金顿玻璃股份有限公司;上海耀皮工程玻璃有限公司;上海耀皮建筑玻璃有限公司;天津耀皮工程玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 上海东亚专利商标代理有限公司 | 代理人： | 罗习群 |
| 地址： | 200126上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种双银复合结构可钢化低辐射镀膜玻璃的膜层组合结构，在镀膜后可以进行钢化处理工艺，而不影响产品的质量；利用以氮化硅Si3N4+ZnO作为基层复合电介质层；选用包括氧化锡SnO2，氧化钛TiO2，氮化硅Si3N4；氧化铌Kb2O5中的一种或几种辅以ZnO的吸收层组成中层复合电介质层，合理选择其他各层的厚度和膜层成分，生产出可以进行高温热处理的双银结构低辐射镀膜玻璃。 | ||
| 搜索关键词： | 复合 结构 可钢化低 辐射 镀膜 玻璃 及其 工艺 | ||
【主权项】：
1、一种双银复合结构可钢化低辐射镀膜玻璃，其征在于，该玻璃的膜层结构自玻璃向外层依次为：玻璃、包含吸收层的基层复合电介质层、银层、阻隔层、包含吸收层的中层复合电介质层、银层、阻隔层、顶层电介质层；其中：包含吸收层的基层复合电介质层为：氮化硅Si3N4+氧化锌ZnO镀层，其总膜层厚度为5nm～75nm；银层Ag：膜层厚度为2nm～25nm；阻隔层一般为NiCr，NiCrOx，Ti，Cr或其他金属元素：膜层厚度为0～30nm；包含吸收层的中层复合电介质层可以为：氮化硅Si3N4，或氧化锡SnO2，或氧化钛TiO2，或氧化铌Kb2O5，或氧化锌锡ZnSnOx，或氧化锌ZnO材料中的一种或者几种组合构成，其总膜层厚度为10nm～200nm；顶层电介质层为：金属或者非金属的氧化物或氮化物，氮化硅Si3N4，或氧化锡SnO2，或氧化钛TiO2，或氧化铌Kb2O5，或氧化锌锡ZnSnOx，膜层厚度为10nm～100nm。
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