[发明专利]双银复合结构可钢化低辐射镀膜玻璃及其工艺

说明书

技术领域：

本发明涉及一种镀有双银层、复合电介质层及吸收层，具有高效遮阳性能并且能够实现可钢化加工的低辐射镀膜玻璃。

背景技术：

可钢化双银结构的镀膜玻璃，是在玻璃表面镀制包括双银层在内的多层金属或其他化合物组成的具有良好性能和可钢化加工能力的膜系产品。由于采用双银层结构使得该产品对可见光有较高的透射率的同时保有良好的隔热性能和遮阳性能，并且设置复合结构的多重金属化合层的长路径确保银层稳定来实现镀膜后的钢化再加工。

采用真空磁控溅射法生产普通双银结构低辐射玻璃的膜层结构一般为：玻璃/基层电介质层/银层/阻隔层/中层电介质层/银层/阻隔层/顶层电介质层。

基层电介质层的材料一般为金属或非金属的氧化物或氮化物，如SnO₂，ZnO，Nb₂O₅，TiO₂，Si₃N₄等；

阻隔层一般为NiCr或者NiCrOx；

中层和顶层电介质层的材料一般为金属或非金属的氧化物或氮化物，如SnO₂，ZnO，Nb₂O₅，TiO₂，Si₃N₄等

但是，在上述这种传统结构的双银低辐射玻璃加工中，只能对玻璃采用先钢化再镀膜的加工方式，这是因为：

1.先镀膜后钢化，加热过程中玻璃中含有的纳离子等物质活性增强会渗透到膜系中，破坏电介质层和银层；

2.先镀膜后钢化，银层中的银粒子会受热迁移，凝聚，产生雾化现象；

3.先镀膜后钢化，热环境下氧气容易渗过化合物保护层，使银层部分或者全部氧化。

钠离子的渗入，银粒子凝聚和银层氧化，会使镀膜玻璃产生斑点，雾化，降低低辐射性能。

随着现代建筑的发展，出于美观节能等考虑，普通的单银结构的可钢化低辐射镀膜玻璃在光学性能上已经不能够满足客户和设计师的要求，而越来越多的要求双银低辐射玻璃在镀膜后也可以进行钢化处理工艺。

发明内容

本发明的目的在于，生产出来的双银低辐射玻璃，在镀膜后可以进行钢化处理工艺，而不影响产品的质量；利用双极脉冲电源溅射技术生产的Si₃N₄作为基层电介质层，辅以陶瓷ZNO的吸收层组成2层复合电介质层(基层和中间层)，合理选择其他各层的厚度和膜层成分，生产出可以进行高温热处理的低辐射镀膜玻璃。

该玻璃的膜层结构自玻璃向外层依次为：玻璃、包含吸收层的基层复合电介质层、银层、阻隔层、包含吸收层的中层复合电介质层、银层、阻隔层、顶层电介质层；其中：

包含吸收层的基层复合电介质层为：氮化硅Si₃N₄+氧化锌ZnO镀层，其总膜层厚度为5nm～75nm；

银层Ag：膜层厚度为2nm～25nm；

阻隔层一般为NiCr，NiCrOx，Ti，Cr或其他金属元素：膜层厚度为0～30nm；

包含吸收层的中层复合电介质层可以为：氮化硅Si₃N₄，或氧化锡SnO₂，或氧化钛TiO₂，或氧化铌Kb₂O₅，或氧化锌锡ZnSnOx，或氧化锌ZnO材料中的一种或者几种组合构成，其总膜层厚度为10nm～200nm；

顶层电介质层为：金属或者非金属的氧化物或氮化物，氮化硅Si₃N₄，或氧化锡SnO₂，或氧化钛TiO₂，或氧化铌Kb₂O_5，或氧化锌锡ZnSnOx，膜层厚度为10nm～100nm。

该项玻璃的镀膜工艺程序是：

a)基板玻璃清洗、干燥；

b)预真空过渡；

c)镀基层电介质层；

d)镀吸收层；

e)镀银层；

f)镀阻隔层；

g)镀中层电介质层；

h)镀吸收层

i)镀银层；

j)镀阻隔层；

k)镀顶层电介质层；

l)预真空过渡；

m)成品检验；

其中各层镀膜工艺是：