[发明专利]耐腐涡轮分子泵叶片的等离子体处理方法无效
| 申请号： | 200910047037.9 | 申请日： | 2009-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN101497982A | 公开（公告）日： | 2009-08-05 |
| 发明（设计）人： | 孙卓;张哲娟;孙鹏;刘素霞 | 申请（专利权）人： | 苏州晶能科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C8/36 | 分类号： | C23C8/36;F04D19/04;F04D29/38 |
| 代理公司： | 北京连城创新知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘伍堂 |
| 地址： | 215024江苏省苏州市工业园区*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及涡轮分子泵叶片表面处理技术领域，特别是一种耐腐涡轮分子泵叶片的等离子体处理方法，包括如下步骤：(1)等离子体清洗：将叶片放入等离子体处理装置的真空腔体内并抽真空，通入Ar，加射频，进行等离子体清洗；(2)等离子体氧化或氮化：将O2或N2或NH3，通入真空腔体内，气压1Pa-1KPa，加射频功率100-5000W，温度200-400℃，功率密度为1-60W/cm2处理1-5h。本发明与现有技术相比，表面处理工艺简单环保，该工艺处理过的铝合金叶片表面所形成的氧化或氮化层致密性高，耐腐蚀能力强。 | ||
| 搜索关键词： | 涡轮 分子 叶片 等离子体 处理 方法 | ||
【主权项】：
1、一种耐腐涡轮分子泵叶片的等离子体处理方法，其特征在于包括如下步骤：(1)等离子体清洗：将叶片放入等离子体处理装置的真空腔体内并抽真空至小于1Pa，以10-500sccm的流量通入Ar，气压保持在1-200Pa，加射频功率400-2000W，等离子体清洗5-10min；(2)等离子体氧化或氮化：将O2或N2或NH3，以50-500sccm的流量通入真空腔体内，气压在1Pa-1KPa，加射频功率100-5000W，温度控制在200-400℃，功率密度为1-60W/cm2处理1-5h。
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