[发明专利]制造多层三维器件或结构方法无效

专利信息
申请号: 200910039521.7 申请日: 2009-05-18
公开(公告)号: CN101891143A 公开(公告)日: 2010-11-24
发明(设计)人: 张刚 申请(专利权)人: 张刚
主分类号: B81C3/00 分类号: B81C3/00;B81C5/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 510620 广东省*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种制造多层三维器件或结构(例如微器件或微结构)方法。此方法通过制造并连接多个独立结构层而形成一个所需的多层三维器件或结构。每一个独立结构层包含至少一种结构材料并形成一种所需的图形。结构材料例子包括金属,半导体和非金属。至少有一个独立结构层包含至少二个互不接触的由结构材料形成的特征结构并且这些互不接触的特征结构借由至少一种牺牲材料结合在一起而形成一个一体的结构层。牺牲材料可在部分和或全部独立结构层被连接在一起后部分或全部去除。本发明也公开了制造所需独立结构层方法。
搜索关键词: 制造 多层 三维 器件 结构 方法
【主权项】:
一种制造多层三维器件或结构的方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:(1)制造两个或更多互不连接的独立结构层,其中每一个结构层包含至少一种结构材料,每一结构层的结构材料在该层形成一个或更多特征结构并形成一种所需的图形,每一结构层的特征结构为所要制造的多层三维器件或结构的一部分,至少有一个结构层包含至少二个互不接触的特征结构并且这些互不接触的特征结构籍由至少一种牺牲材料所结合在一起而形成一个一体的结构层;(2)按所需的层序和层与层之间的方位连接至少所制造的上述独立结构层而形成一个一体的多层三维器件或结构;(3)如果需要,在上述独立结构层的连接过程中和或连接完成后,去除至少一种牺牲材料的部分或全部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于张刚,未经张刚许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910039521.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top