[发明专利]一种提纯工业硅制备太阳能级硅的方法有效

专利信息
申请号: 200910036966.X 申请日: 2009-01-23
公开(公告)号: CN101475174A 公开(公告)日: 2009-07-08
发明(设计)人: 黄新明;张永欣;邝亚镭;郭宽新 申请(专利权)人: 晶海洋半导体材料(东海)有限公司
主分类号: C01B33/037 分类号: C01B33/037
代理公司: 广州知友专利商标代理有限公司 代理人: 李海波
地址: 222300江苏省连*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种提纯工业硅(2N)制备太阳能级硅的方法,该方法是将工业硅经过初步破碎预处理后,放入高温固相反应炉中,在高温下与活性气体进行气-固反应,达到除去金属杂质的目的,然后对晶体硅进行清洗,晶体硅的纯度达到高于99.999%(5N),进一步通过电子束真空熔炼,定向凝固处理,最后采用活性气氛等离子体进行进一步的提纯,除去活性高且易被氧化而生成高饱和蒸汽压的易挥发的元素,最后在等离子体多晶硅铸造一体炉中铸造成多晶硅,直接用于制作电池片。本发明联合了高温气-固反应除去金属杂质,电子束除去容易挥发的元素以及等离子提纯铸造一体炉技术,将多晶硅的纯度提高到99.99999%(7N),完全满足太阳能电池行业对太阳能级硅的要求。
搜索关键词: 一种 提纯 工业 制备 太阳 能级 方法
【主权项】:
1、一种提纯工业硅制备太阳能级硅的方法,其特征在于包括以下步骤:
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