[发明专利]编码微球的制备方法有效
| 申请号： | 200910026137.3 | 申请日： | 2009-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN101543755A | 公开（公告）日： | 2009-09-30 |
| 发明（设计）人： | 李炯;鲍芳;郑克孝;曹榕 | 申请（专利权）人： | 苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
| 主分类号： | B01J13/02 | 分类号： | B01J13/02 |
| 代理公司： | 南京苏科专利代理有限责任公司 | 代理人： | 陈忠辉 |
| 地址： | 215125江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种编码微球的制备方法，其特征在于包括步骤：在衬底上涂覆牺牲层；进而在其表面生长或沉积制备单层或多层复合的微球材料层；对微球材料层进行光阻涂布、光显影、刻蚀、清洗的半导体微加工制程，生成编码的微图案或阵列；再按制备要求的微球尺寸再次光刻，并清洗去除微球轮廓以外的微球材料层；选取对牺牲层具有溶解性的液剂，将夹有牺牲层的衬底及编码微球浸没于液剂中，最后释放出编码各异的微球悬浮在液剂中。通过微加工技术实现编码微球的制备，提高了微球编码的容量，而且制备工艺过程具有较好的可重复性，便于实施；且可采用常规荧光显微镜来进行检测，有效降低了生物分析的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 编码 制备 方法 | ||
【主权项】：
1. 编码微球的制备方法，其特征在于包括步骤：步骤一：在衬底上涂覆牺牲层，用于微球制备完成后与衬底分离；步骤二：在牺牲层表面采用生长或沉积工艺制备单层或多层复合的微球材料层；步骤三：对微球材料层进行光阻涂布、光显影、刻蚀、清洗的半导体微加工制程，在微球材料层生成编码的微图案或阵列；步骤四：对生成编码的微球材料层按制备要求的微球尺寸再次光刻，并清洗去除微球轮廓以外的微球材料层；步骤五：选取对牺牲层具有溶解性的液剂，将夹有牺牲层的衬底及编码微球浸没于液剂中，释放出编码各异的微球悬浮在液剂中。
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