[发明专利]热转印记录介质无效
| 申请号： | 200910001290.0 | 申请日： | 2009-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN101486282A | 公开（公告）日： | 2009-07-22 |
| 发明（设计）人： | 椿义德 | 申请（专利权）人： | 索尼株式会社 |
| 主分类号： | B41M5/382 | 分类号： | B41M5/382;B41M5/40 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 吴亦华;徐一琨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本申请公开了一种热转印记录介质，它含有布置在基材上的至少一层可转印保护层，并且在所述基材与所述可转印保护层之间具有不可转印的剥离层，其中在热转印期间，所述保护层在所述至少一层保护层与所述剥离层之间的界面处与所述剥离层分离，然后被热转印到图像上，该热转印记录介质包括至少含有含氟表面活性剂的底漆层，所述底漆层、剥离层和保护层依此顺序叠合在所述基材的一个表面上，其中所述剥离层的玻璃化转变温度为60～110℃。 | ||
| 搜索关键词： | 印记 介质 | ||
【主权项】：
1. 一种热转印记录介质，所述热转印记录介质包括布置在基材上的至少一层可转印保护层，在所述基材与所述可转印保护层之间具有不可转印的剥离层，其中在热转印期间，所述保护层在所述至少一层保护层与所述剥离层之间的界面处与所述剥离层分离，然后被热转印到图像上，该热转印记录介质包含：至少含有含氟表面活性剂的底漆层，所述底漆层、剥离层和保护层依此顺序叠合在所述基材的一个表面上，其中所述剥离层的玻璃化转变温度为60～110℃。
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