[发明专利]热转印记录介质无效

专利信息
申请号: 200910001290.0 申请日: 2009-01-16
公开(公告)号: CN101486282A 公开(公告)日: 2009-07-22
发明(设计)人: 椿义德 申请(专利权)人: 索尼株式会社
主分类号: B41M5/382 分类号: B41M5/382;B41M5/40
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 吴亦华;徐一琨
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 印记 介质
【权利要求书】:

1.一种热转印记录介质,所述热转印记录介质包括布置在基材上的至少一层可转印保护层,在所述基材与所述可转印保护层之间具有不可转印的剥离层,其中在热转印期间,所述保护层在所述至少一层保护层与所述剥离层之间的界面处与所述剥离层分离,然后被热转印到图像上,该热转印记录介质包含:

至少含有含氟表面活性剂的底漆层,所述底漆层、剥离层和保护层依此顺序叠合在所述基材的一个表面上,

其中所述剥离层的玻璃化转变温度为60~110℃。

2.根据权利要求1所述的热转印记录介质,其中所述含氟表面活性剂含有至少一种选自式(1)~(3)的化合物:

Rf-(L1)m-(Y1)n-X    式(1)

其中Rf表示含至少1个氟原子的脂肪基;L1表示二价连接基;Y1表示任选取代的亚烷氧基、亚烷基或烯基;X表示氢原子、羟基、阴离子基或阳离子基;m表示0或1~5的整数;n表示0或1~40的整数;

Rf-(O-Rf′)n1-L2-X′m1    式(2)

其中Rf表示含至少1个氟原子的脂肪基;Rf′表示含至少1个氟原子的亚烷基;L2表示单纯的键或连接基;X′表示羟基、阴离子基或阳离子基;n1和m1各自表示等于或大于1的整数;和

[(Rf″O)n2-(PFC)-CO-Y2]k-L3-X″m2    式(3)

其中Rf″表示含1~4个碳原子的全氟烷基;(PFC)表示全氟环亚烷基;Y2表示含氧原子或氮原子的连接基;L3表示单纯的键或连接基;X″表示阴离子基、阳离子基、非离子基或含两性基的赋予水溶性的极性基;n2表示1~5的整数;k表示1~3的整数;以及m2表示1~5的整数。

3.根据权利要求1所述的热转印记录介质,其中所述剥离层含有选自聚乙烯醇缩乙醛和聚乙烯醇缩丁醛中的至少一种。

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