[发明专利]等离子体CVD用阴电极和等离子体CVD装置有效
申请号: | 200880127917.0 | 申请日: | 2008-04-08 |
公开(公告)号: | CN101971292A | 公开(公告)日: | 2011-02-09 |
发明(设计)人: | 铃木正康 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | H01L21/205 | 分类号: | H01L21/205;C23C16/455;C23C16/505;H01L21/31;H01L31/04 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 黄纶伟;吕俊刚 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 在通过施加高频而形成高频电容耦合型等离子体的等离子体CVD用阴电极的结构中,该阴电极与阳电极对向配置,同时与阳电极对向的对向面构成为凹凸形状,该凹凸形状通过由底面构成的凹部和由从该凹部的底面向阳电极侧突出的多个突出部形成的凸部构成。凸部的至少任意一个的突出部在侧面至少具有一个能够喷出反应气体的反应气体喷孔,该反应气体喷孔的反应气体喷出方向与凹部底面大致平行。通过使阴电极最优化而产生高密度的等离子体。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 cvd 阴电 装置 | ||
【主权项】:
一种等离子体CVD用阴电极,其是通过施加高频而形成高频电容耦合型等离子体的电极,其特征在于,该阴电极与阳电极对向配置,该阴电极与阳电极对向的对向面具有凹凸形状,该凹凸形状通过由底面形成的凹部和由从该凹部的底面向阳电极侧突出的多个突出部形成的凸部构成,所述凸部的至少任意一个突出部在侧面具有至少一个能够喷出反应气体的反应气体喷孔,所述反应气体喷孔的反应气体喷出方向与凹部底面大致平行。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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