[发明专利]用于控制衬底污染的方法和设备无效
| 申请号： | 200880126995.9 | 申请日： | 2008-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN101970315A | 公开（公告）日： | 2011-02-09 |
| 发明（设计）人： | 奥列格·P·基什科维奇;大卫·L·哈尔布迈尔;阿纳托利·格雷费尔 | 申请（专利权）人： | 诚实公司 |
| 主分类号： | B65D85/86 | 分类号： | B65D85/86 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 顾晋伟;王春伟 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 用于在由聚合物形成的衬底容器中保持极其干燥的环境的组件、系统和方法，其提供清洗衬底容器的补充外部气体，以使经过容器的聚合物壁发生的水分和氧渗透最小化并控制容器的聚合物壁中夹带的水的脱附。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 控制 衬底 污染 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种用于保持其中容纳有晶片的晶片容器的外壳，所述外壳具有接收晶片容器的开口，并且具有两个吹扫系统，每个所述吹扫系统分别提供不同浓度或组成的吹扫气，一个所述吹扫系统用于所述晶片容器的内部，一个所述吹扫系统用于将吹扫气导向所述晶片容器的限定壁的外表面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于诚实公司，未经诚实公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200880126995.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
