[发明专利]用于制备具有改善的边缘清晰度的结构的方法有效
| 申请号： | 200880126667.9 | 申请日： | 2008-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN101946305A | 公开（公告）日： | 2011-01-12 |
| 发明（设计）人： | 布拉因·J·盖茨;罗伯特·T·克拉沙;普热梅斯瓦夫·P·马尔科维茨;克雷格·R·斯克拉;罗伯特·J·德沃;迪安·法克里斯 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/027 | 分类号： | H01L21/027;G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 梁晓广;关兆辉 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开的方法包括相对于多光子固化性光反应性组合物扫描辐射光束。该辐射光束具有的功率足以至少部分地固化一定体积的这种多光子固化性光反应性组合物。该方法还包括随着该辐射光束被扫描，改变该辐射光束的特性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制备 具有 改善 边缘 清晰度 结构 方法 | ||
【主权项】：
一种方法，包括：相对于多光子固化性光反应性组合物扫描辐射光束，其中所述辐射光束具有的功率足以至少部分地固化一定体积的所述多光子固化性光反应性组合物；以及随着所述辐射光束被扫描，改变所述辐射光束的特性。
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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