[发明专利]用于极高分辨率图案形成的扫描EUV干涉成像有效
| 申请号： | 200880123284.6 | 申请日： | 2008-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN101910951A | 公开（公告）日： | 2010-12-08 |
| 发明（设计）人： | 亨利·塞维尔 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于将图案写入到衬底上的系统和方法。产生第一和第二极紫外(EUV)辐射束。使用曝光单元以将第一和第二EUV辐射束投影到衬底上。第一和第二辐射束相互干涉，以在衬底的曝光场处曝光第一组平行线。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 极高 分辨率 图案 形成 扫描 euv 干涉 成像 | ||
【主权项】：
一种器件制造方法，包括步骤：(a)产生第一和第二极紫外(EUV)辐射束；和(b)使用曝光单元以将所述第一和第二EUV辐射束投影到衬底上，使得所述第一和第二辐射束相互干涉，以在衬底的曝光场处曝光第一组平行线。
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