[发明专利]具有毂的晶片载具无效
| 申请号: | 200880119920.8 | 申请日: | 2008-12-01 |
| 公开(公告)号: | CN101897003A | 公开(公告)日: | 2010-11-24 |
| 发明(设计)人: | V·博古斯拉夫斯基;A·I·居拉瑞;K·莫伊;E·A·阿穆尔 | 申请(专利权)人: | 威科仪器有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/205 | 分类号: | H01L21/205;H01L21/677 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 蔡胜利 |
| 地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | 一种用于转盘CVD反应器的晶片载具(30)包括陶瓷例如碳化硅形成的一体式托板(32),在该托板的上游表面(34)限定了晶片保持特征例如容槽(38);还包括毂(40),其在托板(32)的中央区(44)中以可拆下的方式安装在托板(32)上。毂(40)提供了在反应器芯轴(16)上的紧固连接,而不会在陶瓷托板(32)上施加集中应力。毂(40)可在清洁托板(32)的过程中拆下。晶片载具(30)还优选包括在托板(32)的中央区(44)设在托板(32)的上游表面(34)上的气体流动促进元件(348,448)。气体流动促进元件(348,448)有助于重新引导入射气体沿着上游表面(34)流动并且避开在中央区(44)出现的流动不连续性。 | ||
| 搜索关键词: | 具有 晶片 | ||
【主权项】:
一种用于CVD反应器的晶片载具,包括:(a)非金属耐火材料形成的托板,具有朝向彼此相反方向的上游表面和下游表面,所述托板具有中央区和外围区,所述托板在外围区中具有晶片保持特征,所述晶片保持特征被配置成保持多个晶片,以使所述晶片暴露在托板的上游表面;以及(b)与托板分开形成的毂,所述毂在所述中央区附连于托板上,所述毂具有芯轴连接部,所述芯轴连接部被配置成接合CVD反应器的芯轴,以便将所述托板与芯轴机械连接。
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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