[发明专利]用于处理流体的装置无效
| 申请号： | 200880119687.3 | 申请日： | 2008-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN101970358A | 公开（公告）日： | 2011-02-09 |
| 发明（设计）人： | K·尼伯格;D·斯滕曼 | 申请（专利权）人： | 沃伦刘斯水务股份公司 |
| 主分类号： | C02F1/32 | 分类号： | C02F1/32;C02F1/72 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 谭佐晞;谭祐祥 |
| 地址： | 瑞典斯*** | 国省代码： | 瑞典;SE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于处理流体的装置，其包括：处理室，其具有用于待处理流体的入口和出口；长UV光生成装置，其设置于所述处理室的内部；光催化结构，其设置于所述处理室中，所述光催化结构是设置于通过处理室的流体流中的过滤器，使得流体流动通所述过滤器，其中所述过滤器被设计为大体管形，且邻近并围绕用于以UV光辐射过滤器的所述UV光生成装置放置，由此产生处理自由基，并且其中所述过滤器被放置使得整个流体流被迫通过被辐射的过滤器。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 处理 流体 装置 | ||
【主权项】：
一种用于处理流体的装置，其包括：处理室，其具有用于待处理流体的入口和出口；长UV光生成装置，其设置于所述处理室的内部；光催化结构，其设置于所述处理室中，所述光催化结构是设置于通过所述处理室的流体流中的过滤器，使得流体流动通过所述过滤器，其中所述过滤器被设计为大体管形，且邻近并围绕用于以UV光辐射所述过滤器的所述UV光生成装置放置，由此产生处理自由基，并且其中所述过滤器被放置使得整个所述流体流被迫通过被辐射的所述过滤器。
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