[发明专利]用于处理流体的装置

权利要求书

1.一种用于处理流体的装置，其包括：

处理室，其具有用于待处理流体的入口和出口；

长UV光生成装置，其设置于所述处理室的内部；

光催化结构，其设置于所述处理室中，所述光催化结构是设置于通过所述处理室的流体流中的过滤器，使得流体流动通过所述过滤器，

其中所述过滤器被设计为大体管形，且邻近并围绕用于以UV光辐射所述过滤器的所述UV光生成装置放置，由此产生处理自由基，并且其中所述过滤器被放置使得整个所述流体流被迫通过被辐射的所述过滤器。

2.如权利要求1所述的装置，其中所述光催化结构包括具有多个孔的网结构，流体可流动通过所述孔。

3.如权利要求1或2所述的装置，其中所述光催化结构是由显示光催化性能的材料制成。

4.如权利要求1或2所述的装置，其中所述光催化结构的表面覆盖有显示光催化性能的材料。

5.如权利要求1或2所述的装置，其中显示光催化性能的材料被散布在所述光催化结构的材料中。

6.如权利要求1所述的装置，其中所述光催化结构包括由石英玻璃制成的基体材料。

7.如前述权利要求2至6中任一项所述的装置，其中网孔尺寸被选定使得所述光催化结构用作过滤器。

8.如前述权利要求中任一项所述的装置，其中所述UV光生成装置包括诸如LED、氙气闪光灯、氘灯的低能耗灯。

9.如前述权利要求中任一项所述的装置，其中所述催化材料包括二氧化钛。

10.如前述权利要求中任一项所述的装置，其中所述处理室的内表面覆盖有显示光催化性能的材料。