[发明专利]偏振片生成用涂布液及偏振片有效
| 申请号： | 200880116634.6 | 申请日： | 2008-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN101861534A | 公开（公告）日： | 2010-10-13 |
| 发明（设计）人： | 井上彻雄;松田祥一;福留有希 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;C09K19/60;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种偏振片生成用涂布液，其含有在波长400nm以上的可见光区域内具有光吸收特性的溶致液晶化合物(A)、在波长400nm以上的可见光区域内不具有光吸收特性或者光吸收特性小的溶致液晶化合物(B)、和溶解前述溶致液晶化合物(A)及溶致液晶化合物(B)的溶剂。 | ||
| 搜索关键词： | 偏振 生成 用涂布液 | ||
【主权项】：
一种偏振片生成用涂布液，其含有在波长400nm以上的可见光区域内具有光吸收特性的溶致液晶化合物(A)、在波长400nm以上的可见光区域内不具有光吸收特性或者光吸收特性小的溶致液晶化合物(B)、和溶解前述溶致液晶化合物(A)及溶致液晶化合物(B)的溶剂。
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