[发明专利]一种光刻胶清洗剂有效
| 申请号： | 200880109166.X | 申请日： | 2008-10-06 |
| 公开（公告）号： | CN101842746B | 公开（公告）日： | 2017-09-15 |
| 发明（设计）人： | 史永涛;彭洪修;曹惠英 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;H01L21/02;C23G1/06;C11D1/83 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所11352 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东张江高科*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种光刻胶清洗剂，其含有季铵氢氧化物、水、烷基二醇芳基醚、二甲基亚砜、聚羧酸类缓蚀剂和氨基唑类缓蚀剂。光刻胶清洗剂组合物可有效去除金属、金属合金或电介质基材上的光刻胶和其他刻蚀残留物，同时对铝和铜等金属，以及二氧化硅等非金属材料具有很低的腐蚀性，还可防止金属表面氧化物的产生。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 洗剂 | ||
【主权项】：
一种光刻胶清洗剂，含有：季铵氢氧化物、水、烷基二醇芳基醚、二甲基亚砜、聚羧酸类缓蚀剂和氨基唑类缓蚀剂，其中，所述烷基二醇芳基醚中烷基二醇的碳原子数目为3～18，所述季铵氢氧化物的含量为质量百分比0.1～10％，所述水的含量为质量百分比0.1～30％，所述的烷基二醇芳基醚的含量为质量百分比1～60％，所述二甲基亚砜的含量为质量百分比1～98％，所述聚羧酸类缓蚀剂的含量为质量百分比0.01～5％，所述的氨基唑类缓蚀剂的含量为质量百分比0.01～5％。
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