[发明专利]一种光刻胶清洗剂

权利要求书

1.一种光刻胶清洗剂，含有：季铵氢氧化物、水、烷基二醇芳基醚、二甲基亚砜、聚羧酸类缓蚀剂和氨基唑类缓蚀剂，其中，所述烷基二醇芳基醚中烷基二醇的碳原子数目为3～18，所述季铵氢氧化物的含量为质量百分比0.1～10％，所述水的含量为质量百分比0.1～30％，所述的烷基二醇芳基醚的含量为质量百分比1～60％，所述二甲基亚砜的含量为质量百分比1～98％，所述聚羧酸类缓蚀剂的含量为质量百分比0.01～5％，所述的氨基唑类缓蚀剂的含量为质量百分比0.01～5％。

2.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂，所述的季铵氢氧化物为四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵和/或苄基三甲基氢氧化铵。

3.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂，所述的季铵氢氧化物的含量为质量百分比0.5～5％。

4.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂，所述的水的含量为质量百分比0.5～15％。

5.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂，所述的烷基二醇芳基醚为丙二醇单苯基醚、异丙二醇单苯基醚、二乙二醇单苯基醚、二丙二醇单苯基醚、二异丙二醇单苯基醚、三乙二醇单苯基醚、三丙二醇单苯基醚、三异丙二醇单苯基醚、六缩乙二醇单苯基醚、六缩丙二醇单苯基醚、六缩异丙二醇单苯基醚、丙二醇单苄基醚、异丙二醇单苄基醚和/或己二醇单萘基醚。

6.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂，所述的烷基二醇芳基醚的含量为质量百分比5～30％。

7.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂，所述的二甲基亚砜的含量为质量百分比50～90％。

8.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂，所述的聚羧酸类缓蚀剂为聚丙烯酸或其共聚物、聚甲基丙烯酸或其共聚物、聚丙烯酸醇胺盐、聚甲基丙烯酸醇胺盐、聚氧乙烯改性聚丙烯酸或其衍生物、聚氧乙烯改性聚甲基丙烯酸或其衍生物、聚环氧琥珀酸、聚天冬氨酸、含羧基的聚己内酯和/或含羧基的聚丙交酯。

9.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂，所述的聚羧酸类缓蚀剂的含量为质量百分比0.05～2.5％。

10.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂，所述的氨基唑类缓蚀剂为3-氨基-1，2，4-三氮唑、4-氨基-1，2，4-三氮唑、5-氨基-四氮唑、3，5-二氨基-1，2，4-三氮唑、2-氨基咪唑、2-氨基苯并咪唑、二氨基苯并咪唑、2-氨基噻唑、2-氨基苯并噻唑、2-氨基噁唑、2-氨基苯并噁唑、3-氨基吡唑、3-氨基咔唑、6-氨基吲唑、2-氨基-1，3，4-噻二唑和/或5-氨基-1，2，3-噻二唑。

11.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂，所述的氨基唑类缓蚀剂的含量为质量百分比0.05～2.5％。

12.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂，所述的光刻胶清洗剂还含有极性有机共溶剂、表面活性剂和除聚羧酸类以及氨基唑类以外的其它缓蚀剂中的一种或多种。

13.如权利要求12所述的光刻胶清洗剂，所述的极性有机共溶剂的含量为质量百分比0～50％；所述的表面活性剂的含量为质量百分比0～5％；所述的除聚羧酸类以及氨基唑类以外的其它缓蚀剂的含量为质量百分比0～10％。

14.如权利要求13所述的光刻胶清洗剂，所述的极性有机共溶剂的含量为质量百分比5～30％；所述的表面活性剂的含量为质量百分比0.05～3％；所述的除聚羧酸类以及氨基唑类以外的其它缓蚀剂的含量为质量百分比0.1-5％。

15.如权利要求12所述的光刻胶清洗剂，所述的极性有机共溶剂为亚砜、砜、咪唑烷酮、醇胺和烷基二醇单烷基醚中的一种或多种，其中烷基二醇单烷基醚中烷基二醇的碳原子数目为3～18；所述的表面活性剂为聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮和/或聚氧乙烯醚；所述的其它缓蚀剂为醇胺类、除氨基唑类以外的唑类、除聚羧酸类以外的羧酸类和/或膦酸类缓蚀剂。

16.如权利要求15所述的光刻胶清洗剂，所述的亚砜为二乙基亚砜和/或甲乙基亚砜。

17.如权利要求15所述的光刻胶清洗剂，所述的砜为甲基砜、乙基砜和/或环丁砜。

18.如权利要求15所述的光刻胶清洗剂，所述的咪唑烷酮为2-咪唑烷酮、1，3-二甲基-2-咪唑烷酮和/或1，3-二乙基-2-咪唑烷酮。