[发明专利]真空吸附控制机构装置、薄膜粘贴装置、显示装置有效
申请号: | 200880105023.1 | 申请日: | 2008-08-20 |
公开(公告)号: | CN101795849A | 公开(公告)日: | 2010-08-04 |
发明(设计)人: | 小寺秀树 | 申请(专利权)人: | NEC液晶技术株式会社 |
主分类号: | B29C65/78 | 分类号: | B29C65/78;B65H37/04;G02B5/30;G02F1/13;G02F1/1335;G09F9/00;B65C9/26 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 孙志湧;李亚 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的在于提供一种结构简单并且能够高精度地将薄膜粘贴于被粘贴物上的真空吸附控制机构装置。本发明的真空吸附控制机构装置,其特征在于,包括:粘贴头,在内部具有空间;多个吸附孔,被设置为从所述粘贴头的表面贯通至内部的所述空间,吸附薄膜;移动挡块,被设置为在所述空间的内部与所述吸附孔接触并相对于所述粘贴头进行相对移动,将所述空间划分为2个区域;以及连接部,设置于作为2个所述区域中的1个区域的第一区域,能够连接于减压源。 | ||
搜索关键词: | 真空 吸附 控制 机构 装置 薄膜 粘贴 显示装置 | ||
【主权项】:
一种真空吸附控制机构装置,其特征在于,包括:粘贴头,在内部具有空间;多个吸附孔,被设置为从所述粘贴头的表面贯通至内部的所述空间,吸附薄膜;移动挡块,被设置为在所述空间的内部与所述吸附孔接触并相对于所述粘贴头进行相对移动,将所述空间划分为2个区域;以及连接部,设置于作为2个所述区域中的1个区域的第一区域,能够连接于减压源。
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