[发明专利]CIS系太阳能电池及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200880024493.5 申请日: 2008-07-14
公开(公告)号: CN101743641A 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 大田盛久;小林大造;船本昭宏;青山茂 申请(专利权)人: 欧姆龙株式会社
主分类号: H01L31/04 分类号: H01L31/04;C25D1/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陶凤波
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 利用电铸法形成由Ni和Mo的合金构成的合金基板(32)。合金基板(32)在厚度方向上的合金组成为变化的斜度组成,下面侧为以Ni为主的组成,上面侧为以Mo为主的组成。另外,在合金基板(32)的上面形成有光散射效果高的呈棱锥状的许多微小的凹凸形状(37)。在合金基板(32)的上面形成有CIS系光吸收层(33),在其上方设有上部电极(35)。
搜索关键词: cis 太阳能电池 及其 制造 方法
【主权项】:
一种CIS系太阳能电池,其具有在上面具有凹凸形状的基板、用于吸收光的光吸收层、配置于所述光吸收层的上方的上部电极,其特征在于,所述光吸收层与所述凹凸形状相接,并形成在所述基板上,所述基板作为下部电极发挥功能。
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