[发明专利]CIS系太阳能电池及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200880024493.5 申请日: 2008-07-14
公开(公告)号: CN101743641A 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 大田盛久;小林大造;船本昭宏;青山茂 申请(专利权)人: 欧姆龙株式会社
主分类号: H01L31/04 分类号: H01L31/04;C25D1/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陶凤波
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: cis 太阳能电池 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种CIS系太阳能电池,其具有在上面具有凹凸形状的基板、用于 吸收光的光吸收层、配置于所述光吸收层的上方的上部电极,

所述光吸收层与所述凹凸形状相接,并形成在所述基板上,所述基板作 为下部电极发挥功能,其特征在于,

所述基板由Mo和Ni的合金或Mo和Co的合金构成,并以Mo的浓度 随着从下面侧向与所述光吸收层相接的上面而增大的方式形成。

2.如权利要求1所述的CIS系太阳能电池,其特征在于,所述凹凸形 状由呈棱锥形状的凹部或凸部构成。

3.如权利要求2所述的CIS系太阳能电池,其特征在于,所述棱锥形 状的顶角为110°。

4.如权利要求1所述的CIS系太阳能电池,其特征在于,所述凹凸形 状的高度为所述光吸收层的厚度的一半以下。

5.如权利要求1所述的CIS系太阳能电池,其特征在于,所述基板利 用电铸法制作。

6.一种CIS系太阳能电池的制造方法,其为权利要求1所述的CIS系 太阳能电池的制造方法,包括:

在形成有所述凹凸形状的翻转形状的模型上进行电铸,在所述模型的上 面堆积由Mo和Ni的合金或Mo和Co的合金构成的基板材料的工序;

通过从形成于所述模型上面的基板上起出所述模型,制作所述基板的工 序,所述基板在上面具有所述凹凸形状,且Mo的浓度随着从下面侧向上面 而增大;

在所述基板的上面形成所述光吸收层的工序;

在所述光吸收层的上方形成上部电极的工序。

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