[发明专利]CIS系太阳能电池及其制造方法有效
| 申请号: | 200880024493.5 | 申请日: | 2008-07-14 |
| 公开(公告)号: | CN101743641A | 公开(公告)日: | 2010-06-16 |
| 发明(设计)人: | 大田盛久;小林大造;船本昭宏;青山茂 | 申请(专利权)人: | 欧姆龙株式会社 |
| 主分类号: | H01L31/04 | 分类号: | H01L31/04;C25D1/00 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陶凤波 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | cis 太阳能电池 及其 制造 方法 | ||
1.一种CIS系太阳能电池,其具有在上面具有凹凸形状的基板、用于 吸收光的光吸收层、配置于所述光吸收层的上方的上部电极,
所述光吸收层与所述凹凸形状相接,并形成在所述基板上,所述基板作 为下部电极发挥功能,其特征在于,
所述基板由Mo和Ni的合金或Mo和Co的合金构成,并以Mo的浓度 随着从下面侧向与所述光吸收层相接的上面而增大的方式形成。
2.如权利要求1所述的CIS系太阳能电池,其特征在于,所述凹凸形 状由呈棱锥形状的凹部或凸部构成。
3.如权利要求2所述的CIS系太阳能电池,其特征在于,所述棱锥形 状的顶角为110°。
4.如权利要求1所述的CIS系太阳能电池,其特征在于,所述凹凸形 状的高度为所述光吸收层的厚度的一半以下。
5.如权利要求1所述的CIS系太阳能电池,其特征在于,所述基板利 用电铸法制作。
6.一种CIS系太阳能电池的制造方法,其为权利要求1所述的CIS系 太阳能电池的制造方法,包括:
在形成有所述凹凸形状的翻转形状的模型上进行电铸,在所述模型的上 面堆积由Mo和Ni的合金或Mo和Co的合金构成的基板材料的工序;
通过从形成于所述模型上面的基板上起出所述模型,制作所述基板的工 序,所述基板在上面具有所述凹凸形状,且Mo的浓度随着从下面侧向上面 而增大;
在所述基板的上面形成所述光吸收层的工序;
在所述光吸收层的上方形成上部电极的工序。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





