[发明专利]用于形成图案的模制薄膜组合物及利用该组合物所制得的模制薄膜无效
| 申请号： | 200880022012.7 | 申请日： | 2008-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN101711375A | 公开（公告）日： | 2010-05-19 |
| 发明（设计）人： | 崔升圭;安哲兴;金锡俊;延济玟;崔永信;朴灿圭;孙佳怜;梁贤伊 | 申请（专利权）人： | 新和光学股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/028 | 分类号： | G03F7/028 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 任永武 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种用于形成图案的模制薄膜组合物(mold film composition)，以100重量份数的该组合物计，包括：30至70重量份数的各别或至少两种选自以下群组的活性低聚物(reactive oligomer)：以聚酯为基质的活性低聚物、以硅为基质的活性低聚物、以丙烯醛基(acryl)为基质的活性低聚物、及以环氧丙烯酸酯为基质的低聚物；30至70重量份数的一具有至少一不饱和基的单官能基或多官能基单体；以及一1至10重量份数的光起始剂(photoinitiator)。本发明另提供一种利用该模制薄膜组合物所制得的模制薄膜(mold film)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 图案 薄膜 组合 利用 | ||
【主权项】：
一种用于形成图案的模制薄膜组合物，包括：30至70重量份数的各别或至少两种选自由以下组成的群组的活性低聚物：以聚酯为基质的活性低聚物、以硅为基质的活性低聚物、以丙烯醛基为基质的活性低聚物、及以环氧丙烯酸酯为基质的低聚物；30至70重量份数的一具有至少一不饱和基的单官能基或多官能基单体；以及一1至10重量份数的光起始剂，以100重量份数的所述组合物计。
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