[发明专利]用于形成图案的模制薄膜组合物及利用该组合物所制得的模制薄膜

说明书

技术领域

本发明是关于一种模制薄膜组合物(mold film composition)，其是于制造半导体装置、电子装置、光电装置、磁装置、显示器装置、微电机系统、或光学透镜薄片(例如：棱镜薄片及扁豆状透镜薄片)等时，用于形成图案于一基板(substrate)上。本发明亦关于一种利用该模制薄膜组合物所制得的模制薄膜(mold film)。

背景技术

一般而言，当制造半导体装置、电子装置、光电装置、磁装置、显示器装置、微电机系统、或光学透镜薄片(例如：棱镜薄片及扁豆状透镜薄片)等时，须进行将微图案(micropattern)形成于基板上的工序。微影技术(photolithography)是一种利用光以在一基板上形成微图案的程序。

然而，现有微影工序所涉的操作是：基板清理、基板表面处理、感光聚合物涂布、软烤(soft-baking)、曝光、显影(development)、清洗、及硬烤(hard-baking)。因此，现有微影工序是复杂、耗时、且需昂贵的装备。因此，增加了制造成本且降低生产力。

为克服微影技术的问题，已提出非传统式平版印刷术(lithography)。

非传统式平版印刷术的例子为：纳米压模微影术(nanoimprint lithography)、微接触式印刷术(micro contact printing，μCP)、毛细管微模制法(micro-moldingin capillaries，MIMIC)、微转换成型(micro-transfer molding，μTM)、软模制(softmolding)、及毛细力微影术(capillary force lithography，CFL)。

除上述形成图案的方法外，亦已知一种使用金属模以形成图案的方法。然而，若使用金属模，薄的薄膜金属模不易处理，且须耗时地制造，故即使转录(transcription)可精确地进行，制造成本亦是昂贵的。

发明内容

[技术问题]

可利用一用于形成图案的模制薄膜以形成一微图案。对用于制造该模制薄膜的组合物而言，热阻是一重要特性。

因此，本发明提供一种用于形成图案的模制薄膜。于利用该模制薄膜制造最终产物的工序中，当该模制薄膜长时间地重复暴露于紫外线下时，该模制薄膜不会使利用其所形成的图案变形，并提供高品质予利用其所制得的最终产物。

[技术解决方法]

本发明一方面提供一种用于形成图案的模制薄膜组合物，以100重量份数的该组合物计，包含：30至70重量份数的各别或至少两种选自以下群组的活性低聚物(reactive oligomer)：以聚酯为基质的活性低聚物、以硅为基质的活性低聚物、以丙烯醛基(acryl)为基质的活性低聚物、及以环氧丙烯酸酯为基质的低聚物；30至70重量份数的一具有至少一不饱和基的单官能基或多官能基单体；以及一1至10重量份数的光起始剂(photoinitiator)。

本发明另一方面提供一种用于形成图案的模制薄膜，其是利用该模制薄膜组合物所制得。

[有利效果]

本发明提供一种具有极佳热阻且用于形成图案的模制薄膜组合物，以及一利用该模制薄膜组合物所制得的模制薄膜。

如上所述，本发明用于形成图案的模制薄膜组合物具有极佳热阻。因此，若利用该模制薄膜组合物于基板上形成一图案，即使长时间重复地暴露于紫外线下，该图案也不会变形，因此改善了形成于基板上的图案的均匀性。

[发明模式]

以下将以例示的实施态样更完整地描述本发明。

本发明的一实施态样的一用于形成图案的模制薄膜组合物，以100重量份数的该组合物计，包含：30至70重量份数的各别或至少两种选自以下群组的活性低聚物：以聚酯为基质的活性低聚物、以硅为基质的活性低聚物、以丙烯醛基为基质的活性低聚物、及以环氧丙烯酸酯为基质的低聚物；30至70重量份数的一具有至少一不饱和基的单官能基或多官能基单体；以及一1至10重量份数的光起始剂。

当使用各别或至少两种选自以聚酯为基质的活性低聚物、以硅为基质的活性低聚物、以丙烯醛基为基质的活性低聚物、及以环氧丙烯酸酯为基质的低聚物所组成的群组的活性低聚物时，是通过双官能基至六官能基的丙烯酸酯基来发生光化学反应。

活性低聚物是一提供本发明的用于形成一图案的模制薄膜的基本物理特性的成分，并改善了形成于该模制薄膜中的凹板印刷图案(intaglio pattern)的热阻。