[发明专利]磁记录介质、其制造方法及磁记录再生装置无效

专利信息
申请号: 200880021665.3 申请日: 2008-04-28
公开(公告)号: CN101689375A 公开(公告)日: 2010-03-31
发明(设计)人: 坂口龙二;黑川刚平;佐佐木有三;小松田辰;A·K·辛格 申请(专利权)人: 昭和电工株式会社
主分类号: G11B5/65 分类号: G11B5/65;G11B5/851;G11B5/66
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 段承恩;刘瑞东
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及磁记录介质、其制造方法及磁记录再生装置。作为在非磁性基板上具有衬底层、基底层、中间层和至少1层垂直磁记录层的垂直磁记录介质,所述垂直磁记录层包含Co及Cr,其至少1层为由强磁性的晶粒和非磁性的氧化物的晶界构成的颗粒结构,构成该晶界的氧化物包含W氧化物。作为其他方式,使所述垂直磁记录层具有多层颗粒结构,所述多层颗粒结构具有以W氧化物为晶界的磁记录层、和形成于其上的以Cr氧化物、Si氧化物、Ta氧化物或Ti氧化物为晶界的磁记录层。该磁记录介质垂直磁性层的垂直取向性优,且具有强磁性晶粒的平均粒径极其微细的特性,高记录密度特性优。
搜索关键词: 记录 介质 制造 方法 再生 装置
【主权项】:
1.一种磁记录介质,是在非磁性基板上至少具有衬底层、基底层、中间层和至少1层垂直磁记录层的垂直磁记录介质,其特征在于:所述垂直磁记录层包含Co和Cr,该垂直磁记录层的至少1层采取由强磁性的晶粒和非磁性的氧化物的晶界构成的颗粒结构,构成该晶界的氧化物包含W氧化物。
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