[发明专利]具有大而均匀的电流的大阵列上指PIN二极管及其形成方法有效

专利信息
申请号: 200880017712.7 申请日: 2008-03-26
公开(公告)号: CN101681914A 公开(公告)日: 2010-03-24
发明(设计)人: S·B·赫纳 申请(专利权)人: 桑迪士克3D公司
主分类号: H01L27/102 分类号: H01L27/102
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 赵蓉民
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明公开了一种沉积硅、锗、或硅锗形成的上指PIN二极管。该二极管具有底层重掺杂P型区、中间本征或轻掺杂区和上层重掺杂N型区。上层重掺杂P型区掺杂砷,并且二极管的半导体材料在接触合适的硅化物、锗化物或硅锗化物时被结晶。可以形成大阵列的此上指二极管,当在二极管上施加大于导通电压的电压时,穿过该阵列的电流均匀性极佳。该二极管可以有利地用于单片三维存储器阵列中。本发明还公开了形成大量上指PIN二极管的方法和许多其他方面。
搜索关键词: 具有 均匀 电流 阵列 pin 二极管 及其 形成 方法
【主权项】:
1在衬底上形成的第一器件级,所述第一器件包括多个垂直取向的PIN二极管,每个PIN二极管包括底层重掺杂P型区,中间本征或轻掺杂区和上层重掺杂N型区;其中每个PIN二极管具有柱的形状;其中,对于至少99%的所述PIN二极管,当在所述底层重掺杂P型区和所述上层重掺杂N型区之间施加的电压为约1.5伏到3.0伏之间时,流过所述PIN二极管的电流至少为1.5微安;其中所述PIN二极管包括沉积的硅、锗、或硅锗;其中第一多个PIN二极管包括所述第一器件级上的每个PIN二极管。
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