[发明专利]具有大而均匀的电流的大阵列上指PIN二极管及其形成方法有效
| 申请号: | 200880017712.7 | 申请日: | 2008-03-26 |
| 公开(公告)号: | CN101681914A | 公开(公告)日: | 2010-03-24 |
| 发明(设计)人: | S·B·赫纳 | 申请(专利权)人: | 桑迪士克3D公司 |
| 主分类号: | H01L27/102 | 分类号: | H01L27/102 |
| 代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 赵蓉民 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | 本发明公开了一种沉积硅、锗、或硅锗形成的上指PIN二极管。该二极管具有底层重掺杂P型区、中间本征或轻掺杂区和上层重掺杂N型区。上层重掺杂P型区掺杂砷,并且二极管的半导体材料在接触合适的硅化物、锗化物或硅锗化物时被结晶。可以形成大阵列的此上指二极管,当在二极管上施加大于导通电压的电压时,穿过该阵列的电流均匀性极佳。该二极管可以有利地用于单片三维存储器阵列中。本发明还公开了形成大量上指PIN二极管的方法和许多其他方面。 | ||
| 搜索关键词: | 具有 均匀 电流 阵列 pin 二极管 及其 形成 方法 | ||
【主权项】:
1在衬底上形成的第一器件级,所述第一器件包括多个垂直取向的PIN二极管,每个PIN二极管包括底层重掺杂P型区,中间本征或轻掺杂区和上层重掺杂N型区;其中每个PIN二极管具有柱的形状;其中,对于至少99%的所述PIN二极管,当在所述底层重掺杂P型区和所述上层重掺杂N型区之间施加的电压为约1.5伏到3.0伏之间时,流过所述PIN二极管的电流至少为1.5微安;其中所述PIN二极管包括沉积的硅、锗、或硅锗;其中第一多个PIN二极管包括所述第一器件级上的每个PIN二极管。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





