[发明专利]图案形成方法、由此形成的图案或模具有效
| 申请号： | 200880016608.6 | 申请日： | 2008-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN101681095A | 公开（公告）日： | 2010-03-24 |
| 发明（设计）人： | 寺崎敦则;关淳一 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;B29C59/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 魏小薇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种图案形成方法，包括：在形成于基材上的薄膜的表面上形成抗蚀剂的图案的步骤；在抗蚀剂的图案上形成反转层的步骤；通过在去除反转层以露出抗蚀剂的表面之后去除抗蚀剂、形成与抗蚀剂的图案互补的反转层的反转图案的步骤；通过以反转层的反转图案为掩模蚀刻薄膜、形成包含其上形成反转层的薄膜的硬掩模层的步骤；以及以其上保留反转层的硬掩模层或其上已去除反转层的硬掩模层作为掩模蚀刻基材的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 由此 模具 | ||
【主权项】：
1.一种图案形成方法，包括：在第一材料的基材的表面上形成第二材料的薄膜的步骤；在第二材料的所述薄膜的表面上形成抗蚀剂的图案的步骤；在所述抗蚀剂的图案上形成第三材料的反转层的步骤；去除所述反转层以露出所述抗蚀剂的表面的步骤；通过去除所述抗蚀剂形成与所述抗蚀剂的图案互补的反转层的反转图案的步骤；通过以所述反转层的反转图案作为掩模蚀刻所述薄膜、形成包含其上形成有所述反转层的所述薄膜的硬掩模层的步骤；和通过以其上保留所述反转层的硬掩模层或其上已去除所述反转层的硬掩模层作为掩模蚀刻所述基材的步骤。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社，未经佳能株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200880016608.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
