[发明专利]图案形成方法、由此形成的图案或模具

权利要求书

1.一种图案形成方法，包括：

在设置在第二材料的薄膜上的转移层上形成抗蚀剂的图案的步 骤，所述薄膜被设置在第一材料的基材的表面上；

在所述抗蚀剂的图案上形成第三材料的第一反转层的步骤；

通过在去除所述第一反转层以露出所述抗蚀剂的表面之后去除 所述抗蚀剂、形成与所述抗蚀剂的图案互补的第一反转层的第一反转 图案的步骤；

通过使用第一反转图案作为掩模蚀刻所述转移层、形成包含所述 转移层和在所述转移层上形成的第一反转图案的第二反转图案的步 骤；

在第二反转图案上形成第三材料的第二反转层的步骤；

通过在去除第二反转层和第一反转图案以露出所述转移层的表 面之后去除所述转移层、形成与第一反转图案互补的第二反转层的第 三反转图案的步骤；

通过使用第三反转图案作为掩模蚀刻所述薄膜、形成包含其上形 成有第三反转图案的所述薄膜的硬掩模层的步骤；和

使用其上保留第三反转图案的硬掩模层或其上已去除第三反转 图案的硬掩模层作为掩模蚀刻所述基材的步骤，

其中，所述第一反转层和第二反转层由对等离子体的抵抗力比所 述抗蚀剂高的材料形成。

2.根据权利要求1的方法，其中，在所述蚀刻所述基材的步骤 中，硬掩模层被用作掩模的区域以外的面积小于所述基材的整个表面 的面积的50％。

3.根据权利要求1的方法，其中，所述图案形成方法还包括： 在形成第一反转层的所述步骤之后使第一反转层平坦化的步骤。

4.根据权利要求1的方法，其中，所述图案形成方法还包括： 在形成第二反转层的所述步骤之后使第二反转层平坦化的步骤。

5.根据权利要求1的方法，其中，第一材料是氧化硅，第二材 料是铬，以及第三材料是包含氧化硅的旋涂玻璃。