[发明专利]涂布基体的方法以及金属合金的真空沉积装置有效

专利信息
申请号: 200880013588.7 申请日: 2008-03-19
公开(公告)号: CN101680080A 公开(公告)日: 2010-03-24
发明(设计)人: P·乔奎特;E·希尔伯伯格;B·施米茨;D·查雷克斯 申请(专利权)人: 安赛乐米塔尔法国公司
主分类号: C23C14/16 分类号: C23C14/16;C23C14/24;C23C14/56
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 柳 冀
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 发明涉及涂布基体(S)的方法,其中通过真空沉积装置(1)将包含至少两种金属元素的金属合金层连续沉积到该基体(S)上,所述真空沉积装置包含蒸气喷射涂布设备(7),该设备使得可以将以预定且恒定的相对比例包含这些金属元素的蒸气喷射到基体(S)上,所述蒸气预先达到声速。该方法更特别地用于沉积Zn-Mg涂层。本发明还涉及连续地涂布金属合金形成的涂层以实施该方法的真空沉积装置(1)。
搜索关键词: 基体 方法 以及 金属 合金 真空 沉积 装置
【主权项】:
1.涂布基体(S)的方法,其中通过真空沉积装置(1,11,21)将包含至少两种金属元素的金属合金层连续沉积到所述基体(S)上,所述真空沉积装置包含蒸气喷射涂布设备(7,17),该设备使得可以以声速将以预定且恒定的相对比例包含所述至少两种金属元素的蒸气喷射到基体(S)上,所述蒸气通过以预定的初始比例包含所述金属元素的金属合金浴的蒸发获得,所述浴的初始比例在沉积过程中保持恒定。
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