[发明专利]成膜装置

摘要

本发明提供一种使用两种以上的气体进行均匀成膜的成膜装置。在配置有成膜室(5)及喷头(1)的成膜装置中，前述喷头具有原料气体扩散室及反应气体扩散室，连接前述原料气体扩散室(135)和原料气体导入管(133)的气体通道(134)由1段以上的多段构成，各段拥有可用2^n-1(n为段数)表示的气体通道，第1段气体通道在其中心部位与前述原料气体导入管连接，第2段以后的各气体通道通过在其中心部位与设置在前一段气体通道两端的连接孔连接，与前一段气体通道连通，最后段的各气体通道通过与其各气体通道两端上形成的连接孔与原料气体扩散室(135)连接。

主权项

1、一种成膜装置，是配置了成膜室和喷头部的成膜装置，其特征在于：前述喷头部配置有原料气体扩散室和反应气体扩散室；连接前述原料气体扩散室和原料气体导入管的气体通道由1段以上的多段构成，各段拥有可用2n-1(n为段数)表示的通道，第1段气体通道与前述原料气体导入管连接，第2段以后的各气体通道与前一段气体通道连通，最后段的气体通道与原料气体扩散室连接。