[发明专利]衍射级测量无效
| 申请号： | 200880006898.6 | 申请日： | 2008-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN101647069A | 公开（公告）日： | 2010-02-10 |
| 发明（设计）人： | J·M·威恩;J·弗兰斯 | 申请（专利权）人： | 单一控制股份有限公司 |
| 主分类号： | G11B7/26 | 分类号： | G11B7/26 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 温大鹏;谭祐祥 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一体化母盘制作系统及制造光学介质的母盘的方法。根据本发明的系统包括：在母盘上记录信息的装置，其包括用于将材料层涂敷到母盘的装置、用于根据待记录的信息按期望图案照射材料层的激光束记录器、用于使材料层显影的装置；用于根据由记录在母盘上的图案所衍射的光束的测量来确定所显影的层的品质的装置；以及，用于根据母盘的品质控制记录装置的装置。根据本发明的方法，母盘的所显影的层的品质被确定且后续母盘的母盘制造工艺设置得到控制。 | ||
| 搜索关键词： | 衍射 测量 | ||
【主权项】：
1.一种制造光学介质的母盘的一体化母盘制作系统，包括：在母盘上记录信息的装置，其包括用于将材料层涂敷到母盘的装置；用于根据待记录的信息按期望图案照射材料层的激光束记录器；和用于使材料层显影的装置；用于根据由记录在母盘上的图案所衍射的光束的测量来确定所显影的层的品质的装置；以及用于根据所确定的母盘品质来控制一体化母盘制作系统的工艺设置的装置。
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