[发明专利]衍射级测量

权利要求书

1.一种制造光学介质的母盘的一体化母盘制作系统，包括：

在母盘上记录信息的装置，其包括

用于将材料层涂敷到母盘的装置；

用于根据待记录的信息按期望图案照射材料层的激光束记录器；和

用于使材料层显影的装置；

用于根据由记录在母盘上的图案所衍射的光束的测量来确定所显影的层的品质的装置；以及

用于根据所确定的母盘品质来控制一体化母盘制作系统的工艺设置的装置。

2.根据权利要求1所述的一体化母盘制作系统，其中，用于控制的装置适于控制记录设置，例如焦点偏移。

3.根据权利要求1或2所述的一体化母盘制作系统，其中，用于控制的装置适于控制用于涂敷材料层的装置和/或激光束记录器。

4.根据权利要求1、2或3所述的一体化母盘制作系统，其中，所述用于涂敷材料层的装置包括用于将光致抗蚀层旋涂到母盘的装置。

5.根据权利要求1、2或3所述的一体化母盘制作系统，其中，所述用于涂敷材料层的装置包括溅射单元。

6.根据权利要求5所述的一体化母盘制作系统，其中，材料层包含介电材料且激光束记录器适于通过按期望图案用激光脉冲照射介电层来诱导介电材料的相变。

7.根据前述权利要求中任一项所述的一体化母盘制作系统，其中，用于控制的装置还适于根据母盘的品质来控制用于显影的装置。

8.一种特别是使用根据前述权利要求中任一项所述的一体化母盘制作系统来制造光学介质的母盘的方法，所述方法包括步骤：

通过以下方式在母盘上记录信息：

将材料层涂敷到母盘；

根据待记录的信息按期望图案照射材料层；和

使材料层显影；

通过测量由记录在母盘上的图案所衍射的光束来确定所显影的层的品质；以及

根据所确定的品质控制后续母盘的工艺设置。

9.根据权利要求8所述方法，其中，用于控制工艺设置的步骤包括控制记录设置，例如焦点偏移。

10.根据权利要求8或9所述的方法，其中，用于控制记录的步骤包括控制涂敷材料层的步骤和/或照射材料层的步骤。

11.根据权利要求8、9或10所述的方法，其中，通过旋涂将光致抗蚀层涂敷到母盘。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，控制工艺设置的步骤包括控制旋涂期间的转速。

13.根据权利要求8、9或10所述的方法，其中，涂敷材料的步骤包括将介电层涂敷到母盘，照射材料层的步骤包括使用激光脉冲按所述期望图案诱导介电层的相变。

14.根据权利要求13所述的方法，其中，控制记录的步骤包括控制溅射阴极和待溅射的母盘表面之间产生的磁场。

15.根据权利要求8-14中任一项所述的方法，其中，控制记录的步骤包括控制用于照射材料层的激光束的焦点。

16.根据权利要求8-15中任一项所述的方法，其中，记录信息的步骤还包括照射待制造母盘的不用于在母盘上记录信息的区域以产生多个带，所述多个带彼此之间具有预定焦点偏移，测量品质的步骤包括测量具有预定焦点偏移的带所衍射的光束强度的步骤。

17.根据权利要求8-16中任一项所述的方法，其中，控制工艺设置的步骤包括控制涂敷到母盘的材料量。

18.根据权利要求10-17中任一项所述的方法，其中，控制工艺设置的步骤还包括通过控制使材料层显影的持续时间来控制使材料层显影的步骤。

19.根据权利要求8-18中任一项所述的方法，其中，测量品质的步骤包括照射母盘的已记录信息的区域以及测量强度和/或第0级、第1级和/或第2级衍射束的位置。