[发明专利]微光刻投射曝光设备的照明系统有效
| 申请号： | 200880003524.9 | 申请日： | 2008-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN101636695A | 公开（公告）日： | 2010-01-27 |
| 发明（设计）人： | 尼尔斯·迪克曼;曼弗雷德·莫尔;克里斯琴·赫蒂奇;奥利弗·纳特 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT股份公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 邱 军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种微光刻投射曝光设备的照明系统，包括至少一个透射滤波器(66；166；266；366；466；566；666；666’；766，766’；866，866’)，其在至少两个位置处具有不同的透射率以及其布置于光瞳平面(42，60)与场平面(52、58)之间。确定所述透射率分布，使得其对椭圆率具有场依赖性的校正效应。在某些实施例中，远心性和/或辐照均匀性不被该校正影响。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 投射 曝光 设备 照明 系统 | ||
【主权项】：
1、微光刻投射曝光设备(10)的照明系统，其中，在曝光光敏层(22)的期间，沿扫描方向(Y)移动掩模(14)，该照明系统包括：(a)光瞳平面(42、60)，(b)场平面(52、58)，(c)透射滤波器(66；166；266；366；466；566；666；666’；766，766’；866，866’)，其在至少两个位置处具有不同的透射率，其中(d)透射滤波器(66；166；266；366；466；566；666；666’；766，766’；866，866’)放置于光瞳平面(42，60)和场平面(52、58)之间。
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