[发明专利]微光刻投射曝光设备的照明系统

权利要求书

1.微光刻投射曝光设备(10)的照明系统，其中，在曝光光敏层(22) 的期间，沿扫描方向(Y)移动掩模(14)，该照明系统包括：

光瞳平面(42、60)，

场平面(52、58)，

透射滤波器(66；166；266；366；466；566；666；666’；766，766’； 866，866’)，其在至少两个位置处具有不同的透射率，

其中

所述透射滤波器(66；166；266；366；466；566；666；666’；766， 766’；866，866’)放置于光瞳平面(42，60)和场平面(52、58)之间，

其中，曝光期间，在所述透射滤波器(66；166；266；366；466；566； 666；666’；766，766’；866，866’)上照明光场，相比于垂直于所述扫描方 向(Y)的方向，该光场在平行于所述扫描方向(Y)的方向上具有更短的 尺寸，

其中，所述透射滤波器(66；166；266；366；466；566；666；666’) 位于距离所述光瞳平面(42，60)和所述场平面(52、58)的一距离处，使 得一束光线以小于L_x/2大于L_y/30的最大直径穿过所述透射滤波器(66；166； 266；366；466；566；666；666’；766，766’；866，866’)，光线中的全部 都穿过所述场平面中的一点，其中L_x是垂直于所述扫描方向(Y)的光场的 长度，以及L_y是沿扫描方向(Y)的光场的长度。

2.如权利要求1所述的照明系统，其中，所述束的最大直径小于L_x/4 大于L_y/15。

3.如权利要求2所述的照明系统，其中，所述束的最大直径小于L_x/8 大于L_y/7。

4.如前述权利要求之一所述的照明系统，包括沿所述光轴(OA)连续 地改变所述透射滤波器(66；166；266；366；466；566)的位置的操纵器 (98)。

5.如权利要求1所述的照明系统，其中，所述透射滤波器被更换支架 所支持。

6.如权利要求5所述的照明系统，其中，所述照明系统包括至少两个 更换支架，用于支持所述透射滤波器，所述透射滤波器位于沿所述光轴的不 同位置处。

7.如权利要求1至3之一所述的照明系统，其中，所述场平面是掩模 平面(58)，在所述曝光期间，在该掩模平面(58)中移动所述掩模(16)。

8.如权利要求1或6所述的照明系统，其中，所述透射滤波器(66； 166；266；366；466；566；666；666’；766，766’；866，866’)包括至少 一个第一滤波器区域(78a，78b；178a，178b；278a，278b；378a，378b； 378a’，378b’；478a，478b；578a，578b；678；678’)，其具有垂直于所述扫 描方向(Y)变化的透射率。

9.如权利要求8所述的照明系统，其中，所述光场具有两个相对的第 一边缘，其沿所述扫描方向(Y)界定所述光场，以及所述光场具有两个相 对的第二边缘，其垂直于所述扫描方向来界定所述光场。

10.如权利要求9所述的照明系统，其中，所述第一滤波器区域(78a， 78b；178a，178b；278a，278b；378a，378b；378a’，378b’；478a，478b； 578a，578b；678；678’；778)至少延伸到所述第一边缘中的一者。

11.如权利要求8所述的照明系统，其中，所述第一滤波器区域(78a， 78b；178a，178b；478a，478b；578a，578b；678；678’；778)的透射率垂 直于所述扫描方向(Y)连续地变化。