[发明专利]制造磁记录介质的方法无效
| 申请号： | 200880000653.2 | 申请日： | 2008-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN101542608A | 公开（公告）日： | 2009-09-23 |
| 发明（设计）人： | 白鸟聪志;镰田芳幸;木村香里;樱井正敏 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;G11B5/65;G11B5/82 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;于 静 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 根据一个实施例，一种制造磁记录介质的方法包括以下步骤：在基底上沉积磁记录层和牺牲层；构图所述牺牲层和磁记录层，以形成凸出的磁图形和牺牲图形；在所述磁图形和牺牲图形之间的凹陷中以及在所述牺牲图形上沉积非磁性材料；以及回蚀刻所述非磁性材料。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 记录 介质 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造磁记录介质的方法，包括以下步骤：在基底上沉积磁记录层和牺牲层；构图所述牺牲层和磁记录层，以形成凸出的磁图形和牺牲图形；在所述磁图形和牺牲图形之间的凹陷中以及在所述牺牲图形上沉积非磁性材料；以及回蚀刻所述非磁性材料。
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