[实用新型]用于化学机械研磨的清洗垫有效
| 申请号： | 200820151225.7 | 申请日： | 2008-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN201231446Y | 公开（公告）日： | 2009-05-06 |
| 发明（设计）人： | 弓艳霞 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王 洁 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种用于化学机械研磨的清洗垫，涉及化学机械研磨平坦化装备领域。本实用新型提供的清洗垫包括基底以及形成于基底工作表面上的沟槽。其中沟槽主要实现清洗时的导流作用，提高清洗垫的清洗效果。本实用新型所提供的清洗垫在应用于化学机械研磨过程中时，具有清洗效果好、使用寿命长的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械 研磨 清洗 | ||
【主权项】：
1. 一种用于化学机械研磨的清洗垫，其特征在于包括基底以及形成于基底工作表面上的沟槽。
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