[实用新型]多晶硅提纯用真空电子束熔炼炉无效
| 申请号： | 200820113667.2 | 申请日： | 2008-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN201309981Y | 公开（公告）日： | 2009-09-16 |
| 发明（设计）人： | 黄以平;李少林;宋宜梅 | 申请（专利权）人： | 桂林实创真空数控设备有限公司 |
| 主分类号： | C30B29/06 | 分类号： | C30B29/06;C30B11/00;C01B33/037 |
| 代理公司： | 桂林市华杰专利商标事务所有限责任公司 | 代理人： | 陆梦云 |
| 地址： | 541003广西*** | 国省代码： | 广西;45 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种多晶硅提纯用真空电子束熔炼炉，其特征是：熔炼室为方形或圆柱形，室壁为双层水冷结构或盘管水冷结构，电子枪垂直向下或水平安装在熔炼室的室壁上，真空系统配置在熔炼室的后方，在送料机构的送料室与熔炼室之间设有隔离阀门，在熔炼室的另一侧配装有充气系统的充气阀门，出料机构设置在熔炼室的底部，与拉锭机构相接，在出料机构和熔炼室之间设置有拉锭室隔离阀，熔炼室内设有水冷坩埚和结晶坩埚，电控系统的高压电源的所有高压器件装在盛有变压器的油箱内，采用变压器油绝缘，高压电源与电控柜连接，电控柜与操作台连接。这种熔炼炉能同时提纯多种元素，生产效率高，能耗低，节能效果好，容易实现大型化和自动化。 | ||
| 搜索关键词： | 多晶 提纯 真空 电子束 熔炼炉 | ||
【主权项】：
1、一种多晶硅提纯用真空电子束熔炼炉，包括熔炼室、电子枪、电子束控制系统、抽真空系统、电控系统、、送、出料机构、拉锭机构和自动控制系统，其特征是：熔炼室(5)为方形或圆柱形，室壁为双层水冷结构或盘管水冷结构，电子枪(1、2)为2-4把，垂直向下或水平安装在熔炼室(5)的室壁上，真空系统配置在熔炼室(5)的后方，送料机构(6)设置在熔炼室(5)的一侧，在送料机构(6)的送料室与熔炼室(5)之间设有隔离阀门，在熔炼室(5)的另一侧配装有充气系统的充气阀门(10)，出料机构(21)设置在熔炼室(5)的底部，与拉锭机构(13)相接，在出料机构(21)和熔炼室(5)之间设置有拉锭室隔离阀(12)，熔炼室(5)内设有水冷坩埚(8)和结晶坩埚(9)，电控系统的高压电源(15)的所有高压器件装在盛有变压器的油箱内，采用变压器油绝缘，高压电源(15)与电控柜(16)连接，电控柜(16)与操作台(17)连接。
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