[实用新型]850纳米红外发光二极管主动照明的抗干扰成像装置无效

专利信息
申请号: 200820076136.0 申请日: 2008-01-22
公开(公告)号: CN201159817Y 公开(公告)日: 2008-12-03
发明(设计)人: 盖盈 申请(专利权)人: 盖盈
主分类号: G03B15/02 分类号: G03B15/02;H04N5/225
代理公司: 石家庄新世纪专利商标事务所有限公司 代理人: 张贰群
地址: 050003河北省石家*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 实用新型提供了一种850纳米红外发光二极管主动照明的抗干扰成像装置,涉及生物识别、安全监控和摄影设备技术领域。包括阵列成像探测器,其特征在于设有中心波长850纳米红外发光二极管主动照明结构,该中心波长850纳米红外发光二极管主动照明结构的光源前面设有光束散射板,上述阵列成像探测器的前面设有能透过中心波长850纳米红外光的光学滤光片。本实用新型的特点是:利用红外光进行主动照明,使用光束散射板提高图像信噪比和均匀性,使所获得的图像具有信噪比高、均匀性高、清晰度高、对比度高等优点,从而可有效提高图像识别的准确度和识别率,技术上具有独特性。可广泛应用于人脸识别、指纹识别等生物识别领域。
搜索关键词: 850 纳米 红外 发光二极管 主动 照明 抗干扰 成像 装置
【主权项】:
1、一种850纳米红外发光二极管主动照明的抗干扰成像装置,包括阵列成像探测器(4、41),其特征在于设有中心波长850纳米红外发光二极管主动照明结构(2),该中心波长850纳米红外发光二极管主动照明结构(2)的光源前面设有光束散射板(1),上述阵列成像探测器(4)的前面设有能透过中心波长850纳米红外光的光学滤光片(3)。
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