[实用新型]一种用于抛光机的气压移动系统无效
申请号: | 200820044848.4 | 申请日: | 2008-03-13 |
公开(公告)号: | CN201168910Y | 公开(公告)日: | 2008-12-24 |
发明(设计)人: | 张煜强 | 申请(专利权)人: | 张煜强 |
主分类号: | B24B29/00 | 分类号: | B24B29/00;B24B47/20 |
代理公司: | 广州创颖专利事务所 | 代理人: | 曹可芬 |
地址: | 529000广东省江*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于抛光机的气压移动系统,包括气缸以及用于向气缸供气的可控气源,所述气缸的缸体及活塞杆分别与抛光机的床体及抛光轮组件或者是分别与抛光机的床体及工件夹持组件相连,气缸的进气口与可控气源相连。在进刀和退刀的过程中是通过气缸的进气或者排气实现,结构十分简单,而且抛光时抛光轮与工件之间的接触压力可以通过检测气缸的压力可获得,针对不同的加工情况可以方便的选择不同的接触压力,同时如果在加工过程中接触压力出现变化,可控气源能够根据上述变化及时调整气压以保持接触压力的稳定,使加工更加精确可靠,保证了加工质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 抛光机 气压 移动 系统 | ||
【主权项】:
1.一种用于抛光机的气压移动系统,其特征在于包括气缸(1)以及用于向气缸供气的可控气源(2),所述气缸(1)的缸体及活塞杆分别与抛光机的床体及抛光轮组件(3)相连,气缸(1)的进气口与可控气源(2)相连。
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