[实用新型]一种测量辐射光场三维分布的装置无效
| 申请号： | 200820028166.4 | 申请日： | 2008-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN201149525Y | 公开（公告）日： | 2008-11-12 |
| 发明（设计）人： | 赵建林;任驹 | 申请（专利权）人： | 西北工业大学 |
| 主分类号： | G01J1/00 | 分类号： | G01J1/00;G01J1/04;G02B6/32;G02B5/00 |
| 代理公司： | 西北工业大学专利中心 | 代理人： | 王鲜凯 |
| 地址： | 710072陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种测量辐射光场三维分布的装置，其特征在于：装置的组成包括钻孔半球壳1、光纤2、钻孔圆盘3、可调光阑6、透镜5和CCD相机4；可调光阑6位于装置底部，钻孔半球壳1位于可调光阑6上，钻孔圆盘3位于钻孔半球壳1之上，二者之间通过若干光纤连接，透镜5位于圆盘3之上，CCD相机4位于透镜5之上。有益效果在于采用光纤和面阵CCD相机可以快速地测量光源辐射光场空间分布。CCD相机曝光时间可调，能够对多个不同强度量级的反射分布进行准确测量。整个装置集电源、光源、测试光路、调节、存储和控制单元于一个紧凑的整体，方便实时在线测量及野外测量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 测量 辐射 三维 分布 装置 | ||
【主权项】：
1.一种测量辐射光场三维分布的装置，其特征在于：装置的组成包括钻孔半球壳(1)、光纤(2)、钻孔圆盘(3)、可调光阑(6)、透镜(5)和CCD相机(4)；可调光阑(6)位于装置底部，钻孔半球壳(1)位于可调光阑(6)上，钻孔圆盘(3)位于钻孔半球壳(1)之上，二者之间通过若干光纤连接，透镜(5)位于圆盘(3)之上，CCD相机(4)位于透镜(5)之上；所述的可调光阑(6)的下表面与钻孔半球壳(1)的赤道面重合，且可调光阑(6)下表面的中心与钻孔半球壳(1)的球心重合；所述的钻孔半球壳(1)、光纤(2)、钻孔圆盘(3)、可调光阑(6)、透镜(5)和成像系统沿装置主轴同轴分布；所述的钻孔半球壳(1)和钻孔圆盘(3)上的孔数目相等且均匀分布，光纤数目等于钻孔半球壳上的孔数和圆盘上的孔数。
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