[实用新型]一种测量辐射光场三维分布的装置

权利要求书

1.一种测量辐射光场三维分布的装置，其特征在于：装置的组成包括钻孔半球壳(1)、光纤(2)、钻孔圆盘(3)、可调光阑(6)、透镜(5)和CCD相机(4)；可调光阑(6)位于装置底部，钻孔半球壳(1)位于可调光阑(6)上，钻孔圆盘(3)位于钻孔半球壳(1)之上，二者之间通过若干光纤连接，透镜(5)位于圆盘(3)之上，CCD相机(4)位于透镜(5)之上；所述的可调光阑(6)的下表面与钻孔半球壳(1)的赤道面重合，且可调光阑(6)下表面的中心与钻孔半球壳(1)的球心重合；所述的钻孔半球壳(1)、光纤(2)、钻孔圆盘(3)、可调光阑(6)、透镜(5)和成像系统沿装置主轴同轴分布；所述的钻孔半球壳(1)和钻孔圆盘(3)上的孔数目相等且均匀分布，光纤数目等于钻孔半球壳上的孔数和圆盘上的孔数。

2.根据权利要求1所述的测量辐射光场三维分布的装置，其特征在于：所述的钻孔圆盘(3)上的孔距钻孔圆盘(3)中心的距离正比于钻孔半球壳(1)上的孔的轴线与装置主轴的夹角，且两对应孔的轴线与光纤轴线在同一平面内。

3.根据权利要求1所述的测量辐射光场三维分布的装置，其特征在于：所述的透镜(5)到钻孔圆盘(3)的距离大于透镜(5)的两倍焦距，透镜(5)的孔径大于钻孔圆盘(3)的直径。

4.根据权利要求1所述的测量辐射光场三维分布的装置，其特征在于：所述的CCD相机(4)靶面距离透镜1倍焦距到2倍焦距之间。

5.根据权利要求1所述的测量辐射光场三维分布的装置，其特征在于：所述的钻孔半球壳(1)上的圆孔(7)沿钻孔半球壳(1)表面均匀分布，孔径可取0.5mm～2mm，孔间距可取1mm～2mm，所有圆孔(7)的轴垂直于钻孔半球壳(1)表面并指向球心。

6.根据权利要求1所述的测量辐射光场三维分布的装置，其特征在于：所述钻孔半球壳(1)上的圆孔(7)的孔径与钻孔圆盘(3)上圆孔的孔径与光纤(2)的直径相等。

7.根据权利要求1所述的测量辐射光场三维分布的装置，其特征在于：所述的所述光纤(2)的两个端面(8)为凸形聚光设计或在光纤两端加装与光纤同轴的自聚焦透镜。

8.根据权利要求1所述的测量辐射光场三维分布的装置，其特征在于：所述的钻孔半球壳(1)的内壁及圆孔(7)的内壁涂黑色吸光涂层。

9.根据权利要求1所述的测量辐射光场三维分布的装置，其特征在于：所述可调光阑(6)采用旋片式光阑。