[发明专利]半导体光电元件有效
申请号: | 200810305081.0 | 申请日: | 2008-10-21 |
公开(公告)号: | CN101728451A | 公开(公告)日: | 2010-06-09 |
发明(设计)人: | 黄世晟;凃博闵 | 申请(专利权)人: | 展晶科技(深圳)有限公司;先进开发光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/10 | 分类号: | H01L31/10;H01L33/00;H01S5/343 |
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地址: | 518033 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种半导体光电元件,其包括:一个基板和一个磊晶结构层,该磊晶结构层位于所述基板之上,该磊晶结构层包括一个N型半导体层,一个第一P型半导体层,一个多重量子井结构层以及一个未掺杂的半导体层。该N型半导体层所用材料的化学通式为AlaInbGa1-a-bN。该第一P型半导体层所用材料的化学通式为AlcIndGa1-c-dN。该多重量子井结构层设置在该N型半导体层与该第一P型半导体层之间。该未掺杂的半导体层设置在该N型半导体层与该多重量子井结构层之间,该未掺杂的半导体层的位垒层能阶高于该多重量子井结构层的位垒层能阶。 | ||
搜索关键词: | 半导体 光电 元件 | ||
【主权项】:
一种半导体光电元件,其包括:一个基板和一个磊晶结构层,该磊晶结构层位于所述基板之上,该磊晶结构层包括一个N型半导体层、一个第一P型半导体层以及一个多重量子井结构层,该N型半导体层所用材料的化学通式为AlaInbGa1-a-bN,其中,a≥0,b≥0,1≥a+b≥0,该第一P型半导体层所用材料的化学通式为AlcIndGa1-c-dN,其中,c≥0,d≥0,1≥c+d≥0,该多重量子井结构层设置在该N型半导体层与该第一P型半导体层之间,该多重量子井结构层所用材料的化学通式为AlxInyGa1-x-yN,其中,x≥0,y≥0,1≥x+y≥0,其特征在于:该磊晶结构层进一步包括一个未掺杂的半导体层,该未掺杂的半导体层设置在该N型半导体层与该多重量子井结构层之间,该未掺杂的半导体层所用材料的化学通式为:AlrInsGa1-r-sN,其中,r≥0,s≥0,1≥r+s≥0,且该未掺杂的半导体层的位垒层能阶高于该多重量子井结构层的位垒层能阶。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的