[发明专利]间隔片阵列及其制作方法无效
| 申请号： | 200810304233.5 | 申请日： | 2008-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN101661145A | 公开（公告）日： | 2010-03-03 |
| 发明（设计）人： | 庄信弘 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B7/02 | 分类号： | G02B7/02;G03F7/00;G03F1/00;G03F1/08;G03F7/075 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种间隔片阵列，该间隔片阵列具有多个阵列排布的通孔和围绕该通孔的遮光区，该间隔片阵列的材料为黑化的聚二甲基硅氧烷。本发明还提供一种上述间隔片的制作方法。本发明采用黑化的聚二甲基硅氧烷材料制作间隔片，原材料成本低，在制作过程中，利用旋转涂布法可以有效地控制聚二甲基硅氧烷材料层的厚度，从而降低间隔片厚度。且利用灰阶光罩可避免繁琐的对准流程，从而适合大批量生产。 | ||
| 搜索关键词： | 间隔 阵列 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种间隔片阵列，该间隔片阵列具有多个阵列排布的通孔和围绕该通孔的遮光区，该间隔片阵列的材料为黑化的聚二甲基硅氧烷。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司，未经鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810304233.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种治疗骨质增生症的中草药剂
- 下一篇：一种衣裤架的挂钩
