[发明专利]一种含磷插层结构选择性红外吸收材料及其制备方法与应用无效

专利信息
申请号: 200810223961.3 申请日: 2008-10-10
公开(公告)号: CN101376722A 公开(公告)日: 2009-03-04
发明(设计)人: 李殿卿;徐向宇;王丽静;林彦军 申请(专利权)人: 北京化工大学
主分类号: C08K9/02 分类号: C08K9/02;C08L23/06;C08K3/26
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 代理人: 何俊玲
地址: 100029北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种含磷插层结构选择性红外吸收材料及其制备方法和应用,含磷插层结构选择性红外吸收材料,简写为P-LDHs,其分子式为Mg2+1-xAl3+x(OH)2(Pm-)a(CO32-)b·kH2O。含磷插层结构选择性红外吸收材料的制备方法是,以层间阴离子为碳酸根的镁铝水滑石MgAl-CO3-LDHs为前体,采用离子交换法将含磷化合物离子插入到水滑石层间,组装得到晶相结构良好的P-LDHs。P-LDHs具有很好的红外线吸收性能。当应用聚合物薄膜中,P-LDHs比MgAl-CO3-LDHs单独使用的红外吸收效果好;当将MgAl-CO3-LDHs与P-LDHs按3-0.3∶1的比例混合后再加入PE时比单一添加P-LDHs时的红外吸收效果更好。
搜索关键词: 一种 含磷插层 结构 选择性 红外 吸收 材料 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种含磷插层结构选择性红外吸收材料,其分子式为:Mg2+ 1-x Al3+ x(OH)2(Pm-)a(CO3 2-)b·kH2O其中Pm-代表层间荷电量为m的含磷阴离子,是H2PO4 -、HPO4 2-或PO4 3-中的任意一种;a、b分别为Pm-和CO3 2-的数量,b有时为0,m×a+2×b=X,0.1
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京化工大学,未经北京化工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810223961.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

tel code back_top