[发明专利]一种含磷插层结构选择性红外吸收材料及其制备方法与应用

权利要求书

1.一种含磷插层结构选择性红外吸收材料的制备方法，具体制备步骤如下：

步骤A：将112.5g的固体Al(NO₃)₃·9H₂O和153.9g的固体Mg(NO₃)₂·6H₂O溶于去离子水中配成750ml混合盐溶液A；另将57.6g固体NaOH和63.5g固体Na₂CO₃溶于去离子水中配成750ml碱溶液B；

室温下迅速将碱溶液和盐溶液于全返混旋转液膜反应器中成核，将得到的浆液100℃晶化6h，离心分离，将得到的样品洗涤至pH值接近7，得水滑石前体滤饼；取少量于70℃干燥24h，得到MgAl-CO₃-LDHs，其Mg²⁺/A1³⁺＝2：1；

取225g上述滤饼用去离子水超声分散，配制成800ml悬浮液；

步骤B：称取58g NaH₂PO₄·2H₂O溶于去离子水中配置成450ml溶液，并加入NaOH溶液调节其pH值为4；

步骤C：在氮气保护下，将步骤B制得的溶液滴入步骤A配制的悬浮液中，用0.1M HNO₃调节体系的pH为4.5，在100℃温度下回流晶化1.5h，过滤，用除CO₂的去离子水洗涤至pH为7，70℃干燥24小时，得到H₂PO₄^-插层结构红外吸收材料Mg_0.66Al_0.34(OH)₂(H₂PO₄^-)_0.34·0.32H₂O。

2.一种含磷插层结构选择性红外吸收材料的制备方法，具体制备步骤如下：

步骤A，B同权利要求1中的步骤A，B；

步骤C：在氮气保护下，将步骤B制得的溶液滴入步骤A配制的悬浮液中，用0.2M NaOH调节体系的pH为8.0，在100℃温度下回流晶化2h，过滤，用除CO₂的去离子水洗涤至pH为7，70℃干燥24小时，得到HPO₄^2-插层结构红外吸收材料：Mg_0.66Al_0.34(OH)₂(HPO₄^2-)_0.17·0.45H₂O。

3.一种含磷插层结构选择性红外吸收材料的制备方法，具体制备步骤如下：

步骤A，B同权利要求1中的步骤A，B；

步骤C：在氮气保护下，将步骤B制得的溶液滴入步骤A配制的悬浮液中，用0.3M NaOH调节体系的pH为13.0，在100℃温度下回流晶化5h，过滤，用除CO₂的去离子水洗涤至pH为7，70℃干燥24小时，得到PO₄^3-插层结构红外吸收材料Mg_0.67Al_0.33(OH)₂(PO₄^3-)_0.11·0.21H₂O。