[发明专利]一种制作微透镜阵列的方法有效
| 申请号： | 200810222332.9 | 申请日： | 2008-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN101676798A | 公开（公告）日： | 2010-03-24 |
| 发明（设计）人： | 董立军 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/16;G03F7/20;G03F7/26;G03F7/42;G02B3/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 周国城 |
| 地址： | 100029*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种制作微透镜阵列的方法，该方法包括：在透明衬底上匀一层光刻胶；对该光刻胶层进行曝光显影，形成方形的光刻胶块；熔融该方形光刻胶块并迅速冷却至室温，形成具有微透镜形状的光刻胶掩膜；从透明衬底具有微透镜形状光刻胶掩膜的一面进行离子注入，在透明衬底中形成具有不同折射率的两层材料，其中一层材料具有微透镜形状；去除透明衬底上的光刻胶掩膜，形成具有不同折射率两种材料并且具有微透镜的阵列结构。利用本发明，可以制作多层透镜阵列，并能够与传统的集成电路离子注入光刻工艺相集成，适合大规模生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制作 透镜 阵列 方法 | ||
【主权项】：
1、一种制作微透镜阵列的方法，其特征在于，该方法包括：在透明衬底上匀一层光刻胶；对该该光刻胶层进行曝光显影，形成方形的光刻胶块；熔融该方形光刻胶块并迅速冷却至室温，形成具有微透镜形状的光刻胶掩膜；从透明衬底具有微透镜形状光刻胶掩膜的一面进行离子注入，在透明衬底中形成具有不同折射率的两层材料，其中一层材料具有微透镜形状；去除透明衬底上的光刻胶掩膜，形成具有不同折射率两种材料并且具有微透镜的阵列结构。
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