[发明专利]集成的曝光后烘烤轨道有效
| 申请号： | 200810215429.7 | 申请日： | 2008-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN101354541A | 公开（公告）日： | 2009-01-28 |
| 发明（设计）人： | S·L·奥尔－乔恩格皮尔;约翰内斯·昂伍李;P·R·巴瑞;B·A·J·拉提克休斯;R·T·普拉格;H·M·塞格斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/26;G03F7/38;H01L21/677;B25J3/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种集成的曝光后烘烤的轨道，还公开了用以处理晶片的系统和方法，组合的曝光后烘烤和冷却单元，以及接口。示例性系统包括光刻工具、本地轨道、传送装置、传送装置处理机、接口单元和用于规划处理过程的控制器。示例性的组合的曝光后烘烤和冷却单元包括在其侧面上有开口的外壳，以及外壳中的烘烤单元和冷却单元。示例性的接口包括多个设置在机械手周围的外壳，其中机械手用以在外壳间传送晶片，多个外壳中的一个是集成的烘烤和冷却单元。 | ||
| 搜索关键词： | 集成 曝光 烘烤 轨道 | ||
【主权项】：
1、一种晶片处理系统，包括：光刻工具；与该光刻工具连接的本地轨道；传送装置处理机，用于操作传送装置以及从传送装置传送晶片和将晶片传送至传送装置；接口单元，用于在传送装置处理机和光刻工具、光刻工具和本地轨道以及本地轨道和传送装置处理机中的一组或多组之间传送晶片；以及控制器，用于规划在光刻工具、本地轨道、接口单元和传送装置处理机中的处理。
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